בחדר הייצור, שינויי הטמפרטורה מהווים גורם שעלול לפגוע באיכות המוצר – גורם שלא תמיד ניתן לראותו. שינוי של 0.5°C במהלך תהליך הייבוש של הפוטורזיסט עלול לפגוע בממדים החשובים של השבב. ייבוש לא אחיד לאחר הניקוי? זה עלול לגרום להיווצרות של כתמי מים, שבהמשך עלולים להפוך לפגמים. יצרנו מכשיר חימום מיוחד כדי להיפטר מחוסר הוודאות הזה.
מה חשוב מבחינה טכנית? אנו משתמשים בקרינת אינפרא-אדום בגלים קצרים, עם גופי פליטה מסוג קוורץ-הלוגן – כך שהאנרגיה מועברת במהירות ובצורה נקייה, ללא יצירת אזורים חמים. באזור הפעיל של השבב, האחידות של הטמפרטורה נשמרת ברמה של ±0.1°C, והשימור של הערך הנקוב נשמר ברמה של ±0.5°C. כלומר, כל תהליך חימום מתבצע לפי אותו תקן טמפרטורי, מדף לדף.
שינויי הטמפרטורה מושלמים בקצב של 2°C/שנייה, והעלייה המופרזת בטמפרטורה נמנעת. זה חשוב כאשר רוצים להסיר חומרי מפרידה מהשכבות הדקות של השבב, מבלי לגרום ללחץ עליהן. העיצוב של המכשיר מתאים לחדרי ייצור מסוג Class 1–100: אין יצירת חלקיקים באזור החם, יש בידוד של האוויר החם, והמכשיר מתאים לשימוש עם מערכות HEPA. צפיפות האנרגיה מותאמת כך שתאפשר תגובה טמפרטורית מהירה, ללא יצירת הבדלי טמפרטורה. המכשיר מתחבר לכלי הייצור הסטנדרטיים דרך חיבורי אנרגיה ואותות שעומדים בתקני CE.
למה זה עובד בדיוק במקומות החשובים? בתהליך ייבוש השבב, החום מועבר במהירות ובאופן אחיד, כך שמתח פני השטח יורד במהירות. לאחר השטיפה, נוצרת פני שטח נקיה לחלוטין, ללא כתמי מים. בתהליך הליתוגרפיה, תהליכי החימום מתבצעים באופן אחיד – הממדים של השבב נשארים יציבים, ורמת החוסר אחידות של הקווים יורדת.
בתהליך האריזה, המכשיר מאפשר ייבוש מבוקר של החומרים המשמשים לאריזה. ההידבקות בין החומרים משתפרת, וכמות החללים הריקים יורדת. התוצאה העקיפה היא פחות עבודות תיקון, זמני עיבוד יציבים, וצריכת אנרגיה צפויה, בזכות שליטה מדויקת ברמת החימום.
הפרטים שצריך לקחת בחשבון בתכנון: המכשיר דורש מתח חשמלי יציב כדי לשמור על אחידות הטמפרטורה של ±0.1°C. אם המתח משתנה ביותר מ-2%, האחידות נפגעת, ויהיה צורך לבצע כיול מחדש. יש לוודא שהאוויר החם מופרד מהאוויר החיצוני. כמו כן, יש לבצע כיול כל 5,000 שעות, באמצעות חיישן מוסמך. זה מבטיח שהאחידות והשימור של הערכים הנקובים יישמרו כראוי.