Selama proses pembakaran, wafer berukuran 300 mm akan masuk ke stasiun pembakaran tersebut. Lapisan fotoresist perlu mencapai suhu yang ditentukan di seluruh permukaannya dalam waktu beberapa detik saja. Jika hal ini tidak terjadi, kualitas CD akan menurun—dan hal ini akan berdampak negatif pada hasil produksi.
Yang penting dalam sistem ini
Kami membuat pemanas inframerah untuk ruang bersih tipe Class 1–100, dengan menggunakan sumber energi berfrekuensi pendek. Hal ini dilakukan agar energi dapat disalurkan secara langsung dan cepat, tanpa gangguan. Sistem umpan balik tertutup memastikan bahwa suhu tetap stabil pada kisaran ±0,1°C. Dengan demikian, kualitas wafer tetap seragam, dan data mengenai kualitas wafer dapat dilihat langsung dari catatan data, tanpa perlu mencari informasi tambahan dalam laporan kerja.
Kemasan kuarsa dan badan pemanas dirancang untuk digunakan di ruang bersih tipe Class 1–100: emisi gasnya rendah, dan strukturnya mencegah terbentuknya partikel. Kepadatan energi dipilih sedemikian rupa sehingga proses pembakaran berjalan lancar, baik saat proses pembakaran ringan maupun berat—tanpa adanya penyimpangan suhu.
Mengapa hal ini penting dalam proses litografi dan pemrosesan wafer
Dalam proses litografi dan pemrosesan wafer, langkah pembakaran merupakan tahap yang membutuhkan energi yang besar. Dengan kontrol suhu yang akurat, variasi suhu antar barisan atau antar batch menjadi lebih kecil. Hal ini berarti penggunaan bahan baku berkurang, limbah berkurang, dan kualitas CD tetap stabil.
Pemanas ini dapat mencapai suhu yang ditentukan dengan cepat, tanpa adanya fluktuasi suhu. Dengan demikian, penggunaan energi pun berkurang. Selain itu, sistem ini dirancang untuk digunakan 24/7, dengan biaya pemeliharaan yang minimal.
Apa yang perlu Anda pertimbangkan sebelum memasangnya
Pemanas ini dapat digabungkan dengan modul pembakaran yang sudah ada, tetapi Anda perlu memastikan bahwa massa termal dan geometri pemasangannya sesuai dengan kondisi ruang bersih. Pastikan juga jarak antara komponen-komponen tersebut, penyesuaian posisi sensor suhu, serta persyaratan klasifikasi ruang bersih yang sesuai dengan proses yang Anda gunakan.