Di fasiliti pembuatan cip, perubahan suhu semasa proses pembakaran yang lembut atau keras bukan sekadar masalah berkaitan ketebalan garisan pada permukaan cip. Perubahan suhu ini akan menjejaskan kualiti dan ketepatan proses pembuatan cip tersebut. Apabila oven tidak mampu mengekalkan suhu yang tetap pada keseluruhan permukaan cip, profil fotoresist akan berubah, dan ini seterusnya akan mempengaruhi hasil proses pembuatan cip. Dalam situasi seperti ini, tenaga yang digunakan akan habis untuk membuat penyesuaian, bukannya untuk mengawal suhu dengan efektif.
Apa yang sebenarnya diperlukan ialah sistem kawalan suhu yang boleh diukur dan dipercayai. Kami telah mencipta platform kawalan suhu yang sangat tepat, agar suhu pada permukaan cip dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C sepanjang proses pembuatan cip. Sistem pemanasan NIR, digabungkan dengan komponen kuarsa yang berkualiti tinggi, memastikan proses pembakaran fotoresist berjalan dengan cepat dan efektif—tanpa adanya kawasan yang terlalu panas atau terlalu sejuk.
Sistem ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Kami juga memastikan tiada zarah berbahaya dihasilkan melalui pemantauan secara langsung. Ketepatan proses dapat dicapai melalui kalibrasi berulang-ulang, sehingga setiap proses pembakaran akan menghasilkan hasil yang sama, dari satu batch ke batch yang lain.
Kesimpulannya, sistem ini menghilangkan faktor variasi suhu yang boleh menyebabkan kegagalan proses pembuatan cip. Ini membolehkan kawalan dimensi yang lebih tepat, pengurangan kerja-kerja pembaikan, serta prestasi litografi yang stabil walaupun menggunakan teknologi cip yang lebih canggih.
Proses pemanasan yang dilakukan adalah efektif, jadi penggunaan tenaga dapat dikurangkan. Selain itu, masa operasi juga meningkat kerana komponen-komponen tersebut direka untuk beroperasi 24/7, sehingga mengurangkan waktu henti yang tidak dijangka. Hasilnya ialah waktu proses yang lebih stabil, serta pengurangan variasi semasa proses etching dan pembangunan cip.
Satu perkara penting yang perlu diperhatikan ialah sistem NIR memerlukan penyesuaian yang teliti terhadap arah sinar dan tingkat emisi panasnya agar sesuai dengan struktur cip tersebut. Proses penyetelan ini memerlukan sedikit masa. Namun, setelah disetel, proses pembuatan cip akan berjalan secara stabil.