Di lantai fabrik, wafer basah adalah liabiliti yang tidak mampu anda tanggung. Kelembapan yang tersisa menyebabkan keruntuhan corak selepas pendedahan, dan profil bakar yang sedikit tidak tepat akan mengubah dimensi kritikal anda. Itulah sebabnya lampu pengering wafer sel solar wujud: untuk mengeluarkan ketidakpastian daripada pengeringan wafer, bakar lembut photoresist dan bakar keras, penyembuhan pengembung pembungkusan, dan pengeringan selepas pembersihan.
Kami membina lampu ini menggunakan pemancar halogen inframerah dekat (NIR) dalam pemasangan kuarza. Tujuannya adalah pemanasan yang cepat dan arah dengan jisim terma yang rendah. Ini diterjemahkan kepada penetapan yang cepat dan kawalan yang ketat: ±0.1°C keseragaman tahap wafer di kawasan yang diterangi, respons wafer kepada titik set yang boleh diulang, dan pembinaan yang serasi dengan bilik bersih untuk Kelas 1–100.
Keluaran tetap stabil walaupun dalam operasi yang panjang. Unit lapangan telah mencatat lebih daripada 5,000 jam dengan kurang daripada 5% pemindahan intensiti. Dan kami mengekalkan penghasilan zarah yang rendah dengan laluan optik tertutup dan bahan rendah gas, jadi pencemaran tetap keluar dari ruang proses.
Dalam litografi, lampu mengeringkan wafer dengan cepat tanpa jalur pelarut, kemudian menjalankan bakar lembut dan bakar keras pada suhu yang stabil yang melindungi CD dan sasaran profil. Dalam pembungkusan, ia mempercepatkan penyembuhan pengembung tanpa mengganggu bajet terma substrat. Selepas pembersihan basah, ia mengeringkan wafer berpola dengan bersih—tanpa kesan air—jadi anda mengurangkan kerja semula.
Penggunaan tenaga diuruskan oleh pemanasan berkitar tugas dan penggabungan yang cekap ke dalam wafer, jadi anda mengekalkan throughput sementara kos operasi menurun.
Pemasangan bergantung kepada butiran. Dapatkan penjajaran optik yang betul dan pastikan penutup lampu mempunyai pengudaraan yang mencukupi; penggabungan terma akan berubah jika jarak berbeza walaupun beberapa milimeter. Lampu berfungsi dengan baik di permukaan yang rata, reflektif, atau gelap. Substrat yang sangat tekstur atau tidak rata akan mengubah suhu tempatan, jadi rancang fixture anda untuk sepadan dengan laluan wafer.
Sahkan spesifikasi voltan dan penyambung terhadap alat anda. Dengan persediaan yang tepat, anda meluaskan tingkap proses dan mengurangkan masa kitaran—tanpa mengorbankan hasil.