Op de productieafdeling is thermische afwijking tijdens het zachte of harde bakproces geen probleem dat alleen te maken heeft met de dikte van de lijnen op het materiaal. Het heeft invloed op de kwaliteit en reproduceerbaarheid van het product. Wanneer de oven de gewenste temperatuur niet kan behouden over het hele oppervlak van de wafer, veranderen de eigenschappen van het fotoresistentmateriaal. Hierdoor wordt er meer energie nodig om de fouten te corrigeren, in plaats van om de procesparameters onder controle te houden.
Wat je echt nodig hebt, is controle die je kunt meten en waarop je kunt vertrouwen. We hebben onze ultrasnelle thermische platform ontworpen om een uniformiteitsniveau van ±0,1°C te bereiken over het hele proces. NIR-straling in combinatie met speciaal ontworpen kwartscomponenten zorgt voor een snelle en efficiënte verwarming van het fotoresistentmateriaal – zonder warme of koude punten.
Het systeem is ontworpen voor gebruik in schone ruimtes van klasse 1–100. We controleren of er geen particules worden gegenereerd, door middel van in-situ monitoring. De reproduceerbaarheid wordt gewaarborgd door gesloten-loopskalibratie, zodat elke batch consistent is.
Het voordeel is dat thermische afwijkingen als oorzaak van fouten worden voorkomen. Hierdoor kan je beter de kritieke dimensies van het product beheersen, wordt er minder herwerk nodig, en blijft de prestatie van de lithografie stabiel, zelfs wanneer je overstapt naar geavanceerdere technologieën.
De verwarming is direct en efficiënt, waardoor de energieverbruik wordt verminderd. Bovendien blijft de productie continu draaien, omdat de componenten geschikt zijn voor 24/7 gebruik. Dit leidt tot kortere productietijden en minder storingen tijdens het proces.
Een praktisch punt: NIR-systemen vereisen nauwkeurige alignering en optimale emissiviteit van de componenten in relatie tot de waferstack. Er zal een korte instellingsperiode zijn nodig om de absorptie en temperatuurprofielen af te stemmen op jouw specifieke fotoresistent- en substraatcombinatie. Eenmaal ingesteld, blijft het proces constant.