Out on the lithography floor, the stripping chamber doesn’t cut you any slack when the temperature drifts. A 0.5°C swing across the wafer can leave behind a thin photoresist heel, invite micro-scum, and send particle counts climbing. That’s exactly where the photoresist stripping support heater earns its keep—by holding the thermal boundary condition steady so the chemistry can finish the job cleanly.
Wat we nodig hebben aan het einde van de dag is reproduceerbare warmte met een strakke uniformiteit. We gebruiken kortgolvige infrarood elementen die zijn afgestemd op het absorptieprofiel van de photoresist stack, en behalen wafer-niveau uniformiteit binnen ±0.1°C. Het verwarmingselement is opgebouwd uit kwarts en hoogzuiver keramiek, ontworpen voor Class 1–100 cleanrooms en geconstrueerd om geen deeltjes te genereren tijdens het cyclen. Reproduceerbaarheid is het uitgangspunt. Zelfde temperatuurprofiel, run na run—houdt kritische dimensie afwijkingen stabiel en voorkomt uitval in de productielijn.
Dit is waarom het in de praktijk werkt: de heater borgt de strippingstap, wat herbewerkingen reduceert en de opbrengst beschermt. U ziet minder residu na het strippen, een lagere defectdichtheid, en voorspelbaardere bakprestaties in zowel soft bake als hard bake cycli. Het energieverbruik blijft ook binnen de perken—snelle thermische respons en lage thermische massa betekenen minder stilstandvermogen zonder stabiliteit op te offeren.
De installatie is rechttoe rechtaan, maar plan de details zorgvuldig. De heater past binnen standaard stripping tool interfaces, maar de toleranties voor montage zijn nauw—uitlijning moet worden gecontroleerd met een meetklok. Reken op een korte opwarmfase terwijl operators de receptparameters afstellen. Zodra deze zijn ingesteld, draait het proces met minimale interventie en is de unit gebouwd voor een lange levensduur met routinematige preventieve controles.