Trong quá trình nung phim quang học, sự thay đổi nhiệt độ không chỉ gây ra vấn đề liên quan đến độ rộng của các đường kẻ trên bề mặt wafer mà còn ảnh hưởng tiêu cực đến chất lượng sản phẩm và khả năng lặp lại của quy trình. Khi lò nung không thể duy trì nhiệt độ ổn định trên toàn bộ bề mặt wafer, các thông số liên quan đến phim quang học sẽ bị thay đổi, dẫn đến những sai số trong quá trình khắc. Như vậy, nguồn năng lượng dùng để điều chỉnh nhiệt độ sẽ bị lãng phí thay vì được sử dụng để kiểm soát nhiệt độ một cách hiệu quả.
Điều mà chúng ta thực sự cần là khả năng kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác và đáng tin cậy. Chúng tôi đã phát triển nền tảng kiểm soát nhiệt độ siêu chính xác, giúp đảm bảo độ đồng đều của nhiệt độ trên toàn bộ bề mặt wafer trong khoảng ±0,1°C trong suốt toàn bộ quy trình. Phương pháp sưởi ấm bằng ánh sáng hồng ngoại, kết hợp với các linh kiện thủy tinh được thiết kế đặc biệt, giúp quá trình nung diễn ra nhanh chóng và hiệu quả – không có điểm nóng hay điểm lạnh nào xảy ra.
Nền tảng này được thiết kế để hoạt động trong môi trường phòng sạch loại 1–100. Chúng tôi cũng kiểm tra xem có sự xuất hiện của các hạt bụi nào hay không thông qua việc giám sát trực tiếp. Khả năng lặp lại của quy trình được đảm bảo nhờ vào việc kalibrat hệ thống một cách chính xác, giúp mỗi lần nung đều cho kết quả như mong muốn.
Ý nghĩa của việc này là loại bỏ yếu tố biến đổi nhiệt độ như một nguyên nhân gây ra lỗi trong quy trình. Kết quả là chúng ta có thể kiểm soát các thông số quan trọng một cách chính xác hơn, giảm thiểu việc phải làm lại sản phẩm, đồng thời đảm bảo chất lượng quy trình in ấn luôn ổn định ngay cả khi chuyển sang các công nghệ tiên tiến hơn.
Việc sưởi ấm diễn ra một cách trực tiếp và hiệu quả, vì vậy mức tiêu thụ năng lượng giảm đi. Thời gian hoạt động của hệ thống cũng được đảm bảo nhờ vào việc các linh kiện được thiết kế để hoạt động 24/7, giúp giảm thiểu các sự cố không mong muốn. Kết quả là thời gian thực hiện quy trình được đảm bảo, và không có sự biến động nào xảy ra trong quá trình khắc và xử lý phim quang học.
Một điểm cần lưu ý là hệ thống sưởi ấm bằng ánh sáng hồng ngoại đòi hỏi phải có sự hiệu chỉnh chính xác về hướng chiếu sáng và độ phản xạ ánh sáng của bề mặt wafer. Bạn cần có thời gian để điều chỉnh các thông số liên quan đến độ hấp thụ ánh sáng và nhiệt độ cho từng loại phim quang học và vật liệu nền cụ thể. Một khi đã được điều chỉnh xong, quy trình sẽ hoạt động ổn định.