Trocknungsheizer für Labore auf Chip Basis

Wed, 17 Jun 2026 11:19:14 +0800

In den Fertigungsanlagen ist die thermische Drift ein „stiller“ Feind, der zu Fehlern führen kann – und den man nicht immer erkennen kann. Eine Schwankung von 0,5 °C während des Weichbrennvorgangs kann die kritischen Abmessungen der Wafer verfälschen. Eine ungleichmäßige Trocknung nach der Reinigung kann wiederum dazu führen, dass Wasserstreifen entstehen, die später zu Defekten werden. Deshalb haben wir einen Trocknungsheizer entwickelt, der diese Unsicherheiten beseitigt.

Was technisch wichtig ist
Wir nutzen Kurzwellinfrarotstrahlung mit Quarz-Halogen-Emittoren – dadurch erfolgt eine schnelle und saubere Energieübertragung, ohne dass es zu Hotspots kommt. Im aktiven Bereich bleibt die Homogenität bei ±0,1 °C, und die Wiederholgenauigkeit liegt bei ±0,5 °C. Das bedeutet, dass jeder Weich- und Hartbrennvorgang nach denselben thermischen Parametern abläuft – Lot für Lot.
Die Temperatursteigerung wird auf 2 °C/s begrenzt, wodurch Überhitzungen vermieden werden. Das ist wichtig, wenn man Lösungsmittel aus dünnen Schichten entfernen will, ohne diese zu belasten. Das Design ist für Reinräume der Klassen 1–100 geeignet: Es entstehen keine Partikel in der heißen Zone, die Entlüftung ist isoliert, und das Gehäuse ist kompatibel mit HEPA-Filtern. Die Leistungsdichte ist so gewählt, dass eine schnelle thermische Reaktion möglich ist – ohne dass es zu Gradienten kommt. Zudem lässt sich der Heizer über CE-konforme Strom- und Signalanschlüsse in Standardfertigungssysteme integrieren.

Labor on Eco-Friendly Infrared Heating

Trocknungsheizer für Labore auf Chip Basis