Reduzierung des Energieverbrauchs beim Trocknen in der Fabrikation

Mon, 01 Jun 2026 17:41:30 +0800

Auf der Fertigungsebene ist jedes Watt, das Sie für das Trocknen aufwenden, ein Watt, das Ihnen für die Prozessmarge fehlt. Herkömmliche Öfen und Heizplatten überschreiten routinemäßig das thermische Budget, verschwenden Energie und versuchen dabei, die ±0,1°C Gleichmäßigkeit zu erreichen, die die Lithografie tatsächlich benötigt. Es wird ein Trocknungsverfahren benötigt, das schnell, sauber und reproduzierbar ist – ohne dass die Energiekosten unverhältnismäßig steigen.

Technisch relevante Aspekte
Wir gestalten den Trocknungsschritt um eine auf Wasser- und Lösungsmittelabsorption abgestimmte Nahinfrarot-(NIR)-Heizung, sodass die Energie direkt in die Verdampfung und nicht in die Erwärmung von Trägern und Vorrichtungen fließt. Das System hält die thermische Gleichmäßigkeit auf Wafer-Ebene innerhalb von ±0,1°C über das gesamte Fenster – nach der Reinigungstrocknung, dem Softbake des Fotolacks und dem Hardbake. Die Reinraum-geeignete Konstruktion sorgt für eine Partikelentstehung von null, sodass es in Klasse 1–100 ohne Kontaminationsprobleme eingesetzt werden kann. Die Temperaturwiederholgenauigkeit ergibt sich aus der geschlossenen Regelung und dem stabilen Emitter-Ausgang, sodass dasselbe thermische Profil schichtübergreifend reproduzierbar ist.

Reduzierung on Eco-Friendly Infrared Heating

Reduzierung des Energieverbrauchs beim Trocknen in der Fabrikation