Infrarotlampe zur Trocknung von Siliziumwafeln

Fri, 19 Jun 2026 02:05:11 +0800

Auf der Oberfläche der Siliziumwafer reicht bereits eine Abweichung von einem halben Grad während des Trocknungsprozesses aus, um zu Fehlern in den kritischen Abmessungen zu führen. Es ist daher notwendig, dass die Wärme genau dort ankommt, wo es der Prozessvorgang erfordert – Schicht für Schicht, Charge für Charge. Das ist die Realität, auf die diese Infrarotlampen zur Trocknung von Siliziumwafern ausgelegt sind.

Was technisch wichtig ist: Wir verwenden Kurzwell-Infrarotstrahler mit schnellem Temperaturanstieg und präziser Spektralkontrolle. So wird eine schnelle Wärmetransfer gewährleistet, ohne dass die thermischen Grenzen des Fotolacks überschritten werden. In der beleuchteten Zone bleibt die Gleichmäßigkeit der Temperatur auf dem Wafer bei ±0,1°C. Die Reproduzierbarkeit wird durch eine geschlossene Pyrometrie-Technologie direkt am Ausgang der Lampe gewährleistet. das gesamte System ist für Reinräume von Klasse 1 bis Klasse 100 geeignet. Die verwendeten Materialien sowie die Geometrie des Gehäuses sorgen dafür, dass keine Staubpartikel entstehen. In der Praxis haben diese Geräte bereits mehr als 5.000 Betriebsstunden hinter sich – doch die Leistung bleibt weiterhin innerhalb von 5% konstant. Das ist eine zuverlässige Leistung.

Silizium on Eco-Friendly Infrared Heating

Infrarotlampe zur Trocknung von Siliziumwafeln