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		<title>Technik on Eco-Friendly Infrared Heating</title>
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				<title>Zukunft der Halbleiterheiztechnologie</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://eco-ir-heater.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Zukunft der Halbleiterheiztechnologie&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;In der Fertigungshalle stellt die thermische Drift während des Weichbrennvorgangs oder des Härtebrennvorgangs nicht nur ein Problem bezüglich der Linienbreite dar. Sie beeinträchtigt außerdem erheblich die Qualität und Wiederholgenauigkeit der Prozesse. Wenn der Ofen die eingestellte Temperatur nicht über die gesamte Fläche des Wafers aufrechterhalten kann, verschieben sich die Profile des Photoresists – dadurch entstehen Unregelmäßigkeiten beim Etch-Vorgang. Dadurch wird Energie für Korrekturen verschwendet, anstatt dass die &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Prozesse&lt;/a&gt; &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;unter&lt;/a&gt; Kontrolle bleiben.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Was wirklich benötigt wird, ist eine Kontrolle, die messbar und zuverlässig ist. Wir haben unsere Ultrapräzisions-Thermalplattform so konzipiert, dass eine Homogenität von ±0,1 °C über den gesamten Prozessablauf gewährleistet wird. Die NIR-Heizung in Kombination mit speziell entwickelten Quarzkomponenten sorgt für eine schnelle und gleichmäßige Erwärmung des Photoresists – ohne Hotspots oder kühle Stellen.&lt;/p&gt;</description>
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