TEL (Tokyo Electron) Heizlampe

Fri, 03 Jul 2026 02:57:57 +0800

In den Produktionsräumen hängt das Gelingen des Prozesses von Grad und Sekunden ab. Eine Abweichung von einem Grad bei der Temperaturkontrolle oder ein kalter Punkt auf der Wafer-Oberfläche können dazu führen, dass das Profil des Fotoleitmittels beeinträchtigt wird. Plötzlich ist die Kontrolle der Linienbreite gefährdet – und der Defektabzug steigt an.

Deshalb sorgen die Heizlampen von TEL dafür, dass die Temperaturstufen genau dort bleiben, wo sie sein sollten – also innerhalb des festgelegten Prozessfensters.

Was wirklich wichtig ist: Diese Lampen verbinden eine schnelle Reaktion auf Kurzwellen-Infrarotstrahlung mit der Stabilität von Quarzmaterialien. Dadurch wird eine zuverlässige Steuerung der Temperatur gewährleistet. Die Homogenität der Temperatur auf der Wafer-Oberfläche liegt bei ±0,1 °C. Das ist besonders wichtig in den kritischen Schritten wie dem Weichbacken des Fotoleitmittels, dem Hartbacken/Kurieren sowie dem Trocknen nach der Reinigung – schließlich wird in allen Chargen immer derselbe thermische Prozess durchgeführt.

TEL on Eco-Friendly Infrared Heating

TEL (Tokyo Electron) Heizlampe