Calentador de post exposición (PEB)

Tue, 23 Jun 2026 12:51:33 +0800

En la sala de litografía, las variaciones en la temperatura del PEB no se manifiestan mediante luces de advertencia. En cambio, se reflejan en anchuras de línea que varían, en márgenes de dosis que disminuyen, y en desperdicios que solo se detectan después de que ya ha ocurrido el problema. Construimos este calentador para eliminar esta incertidumbre, ya que la química del fotoresisto no perdona errores en cuanto a su rango térmico.

Lo que realmente importa desde el punto de vista técnico Utilizamos infrarrojos de onda corta con un diseño de cuarzo-halógeno, lo que permite que el calor llegue directamente al wafer. Esto reduce la inercia térmica y acelera el proceso de enfriamiento. En toda la superficie de calentamiento, la uniformidad a nivel de wafer se mantiene dentro de ±0.1°C, y la estabilidad del punto de ajuste es suficientemente alta como para que las dimensiones críticas no varíen de lote en lote.

(PEB) on Eco-Friendly Infrared Heating

Calentador de post exposición (PEB)