ऊर्जा on Eco-Friendly Infrared Heating

फैब ड्रायिंग हेतु ऊर्जा ऑडिट

Sun, 26 Jul 2026 11:59:37 +0800

रासायनिक कारखानों में वस्तुओं को सुरक्षित रखना
जब आप रासायनिक कारखानों में वस्तुओं को सुखाते हैं, तो वास्तव में आप खतरनाक परिस्थितियों में काम कर रहे होते हैं। वहाँ हर जगह अस्थिर रासायनिक पदार्थ मौजूद होते हैं। ऐसी परिस्थितियों में, एक छोटी सी चिंगारी या गर्म सतह के कारण ही सब कुछ नष्ट हो सकता है। इसीलिए हम लैंपों को सुरक्षात्मक कवरों में ही रखते हैं, ताकि ऐसी स्थितियाँ न उत्पन्न हों।

सुरक्षात्मक कवरों का उपयोग
सामान्य क्वार्ट्ज ट्यूबें बहुत ही नाजुक होती हैं। इसके अलावा, इनमें विद्युत संपर्क भी खुले ही रहते हैं। रासायनिक वातावरण में ऐसी स्थितियाँ समस्याओं का कारण बन सकती हैं। इसलिए हम लैंपों को सुरक्षात्मक कवरों में ही रखते हैं। हम उच्च गुणवत्ता वाले बोरोसिलिकेट/क्वार्ट्ज सामग्रियों का उपयोग करते हैं, एवं ऐसे कवरों में ऐसे गैस्केट भी लगाते हैं जो रासायनिक वाष्पों के संपर्क में भी टूटते नहीं। हम हर विद्युत संपर्क को भी सुरक्षित रखते हैं। इससे कमरे में नमी बढ़ने पर भी कोई समस्या नहीं होती।

ऊर्जा बचत वाले सेमीकंडक्टर आधारित हीटिंग सिस्टम

Thu, 23 Jul 2026 09:24:21 +0800

अपनी मशीन की दीवारों को गर्म न करें… बल्कि वेफरों को ही गर्म करें।

क्या आपने कभी ध्यान दिया है कि सेमीकंडक्टर चेंबर की दीवारें कितनी गर्म हो जाती हैं? यह एक बहुत ही परेशान करने वाली समस्या है। अधिकांश हीटिंग सिस्टम, ऊर्जा को हर दिशा में भेजते हैं; इसके कारण मशीन के चेसिस को गर्म करने हेतु बहुत अधिक ऊर्जा खर्च हो जाती है… जबकि वास्तव में ऊर्जा का उपयोग वेफरों को गर्म करने हेतु ही होना चाहिए। यह तो बेकार ही ऊर्जा-खर्च है।
इसीलिए हम दिशात्मक इन्फ्रारेड हीटिंग का उपयोग करते हैं।

ऊर्जा कुशल वेफ़र हीटर

Tue, 21 Jul 2026 02:07:10 +0800

जब अस्थिर रासायनिक पदार्थों के आसपास वेफरों को गर्म किया जाता है, तो चीजों को सुरक्षित रखना बहुत ही महत्वपूर्ण है।
ईमानदारी से कहें तो, रासायनिक सफाई प्रक्रिया में वेफरों को गर्म करना बहुत ही जोखिम भरा काम है। वहाँ ज्वलनशील/विस्फोटक वाष्प मौजूद होती हैं, और गर्मी पैदा करने वाले उपकरण भी उसी जगह पर ही होते हैं।
सामान्य इन्फ्रारेड लैंप ऐसे कामों के लिए उपयुक्त नहीं हैं। थोड़ी सी चिंगारी या गर्म सतह के कारण भी विस्फोट हो सकता है। हमने इस समस्या को दूर करने हेतु बहुत मेहनत की है… और इसका समाधान तो उपकरणों को ठीक से सील करने में ही है।

फैब ड्राईंग में ऊर्जा की खपत कम करना

Mon, 01 Jun 2026 17:41:30 +0800

फैब फ्लोर पर, ड्राईंग में हर एक वाट आपका वह वाट होता है जिसे आप प्रोसेस मार्जिन पर खर्च नहीं कर सकते। पुराने ओवन और हॉट प्लेट अक्सर थर्मल बजट से अधिक ऊर्जा खर्च करते हैं, जबकि वे ±0.1°C की वह थर्मल यूनिफॉर्मिटी पाने की कोशिश करते हैं जिसकी लिथोग्राफी को वास्तव में आवश्यकता होती है। आपको तेज, साफ और दोहराने योग्य ड्राईंग चाहिए—बिना यूटिलिटी बिल के अत्यधिक बढ़ने के।

तकनीकी दृष्टि से जो महत्वपूर्ण है
हम ड्राईंग चरण को नियर-इन्फ्रारेड (NIR) हीटिंग के आसपास डिजाइन करते हैं, जो पानी और सॉल्वेंट के अवशोषण के अनुसार ट्यून किया गया होता है, जिससे ऊर्जा वेपराइजेशन में जाती है, ना कि कैरियर्स और फिटिंग्स को गर्म करने में। सिस्टम पूरी विंडो में वेफर-लेवल थर्मल यूनिफॉर्मिटी को ±0.1°C के भीतर बनाए रखता है—पोस्ट-क्लीन ड्राई-ऑफ, फोटोरेसिस्ट सॉफ्ट बेक, और हार्ड बेक के दौरान। क्लीनरूम-ग्रेड निर्माण पार्टिकल जनरेशन को शून्य पर रखता है, जिससे यह Class 1–100 में बिना कंटैमिनेशन के काम करता है। तापमान की दोहराव क्षमता क्लोज्ड-लूप कंट्रोल और स्थिर एमिटर आउटपुट से आती है, जिससे समान थर्मल प्रोफाइल शिफ्ट दर शिफ्ट चलता रहता है।