Bersih on Eco-Friendly Infrared Heating

Pemanas untuk mobil kerja di ruang bersih semikonduktor

Fri, 24 Jul 2026 09:07:10 +0800

Berhentilah Mengubah Kereta Transportasi di Ruang Bersih menjadi “oven”

Sebagian besar elemen pemanas hanya memancarkan panas ke segala arah. Di ruang bersih untuk produksi semikonduktor, hal ini justru menimbulkan masalah. Ketika menggunakan pemanas jenis lama tersebut, dinding bagian dalam peralatan akan menyerap seluruh energi yang terbuang sia-sia. Akibatnya, suhu di dalam peralatan menjadi sangat tinggi, sehingga komponen-komponen sensitif bisa rusak akibat ekspansi termal. Ini benar-benar situasi yang kacau.

Lampu inframerah untuk meja di ruang bersih

Mon, 13 Jul 2026 16:48:32 +0800

Cara memanaskan komponen semikonduktor tanpa membuat bagian lain dari mesin menjadi panas berlebihan

Pernahkah Anda mencoba memanaskan bagian dalam peralatan semikonduktor, hanya untuk menemukan bahwa seluruh mesin tersebut justru menjadi “dapur” yang sangat panas? Itu merupakan masalah klasik dalam bidang teknik.

Masalahnya adalah, pemanas konvensional hanya mampu menghangatkan udara di sekitarnya. Udara panas tersebut akan bergerak ke segala arah, sehingga menyentuh setiap permukaan yang ada. Akibatnya, akan terbentuk titik-titik panas yang bisa melukai tangan operator, atau bahkan merusak kalibrasi komponen elektronik yang sensitif.

Pemanas inframerah untuk ruang bersih

Thu, 02 Jul 2026 02:55:30 +0800

Selama proses pembakaran, wafer berukuran 300 mm akan masuk ke stasiun pembakaran tersebut. Lapisan fotoresist perlu mencapai suhu yang ditentukan di seluruh permukaannya dalam waktu beberapa detik saja. Jika hal ini tidak terjadi, kualitas CD akan menurun—dan hal ini akan berdampak negatif pada hasil produksi.

Yang penting dalam sistem ini
Kami membuat pemanas inframerah untuk ruang bersih tipe Class 1–100, dengan menggunakan sumber energi berfrekuensi pendek. Hal ini dilakukan agar energi dapat disalurkan secara langsung dan cepat, tanpa gangguan. Sistem umpan balik tertutup memastikan bahwa suhu tetap stabil pada kisaran ±0,1°C. Dengan demikian, kualitas wafer tetap seragam, dan data mengenai kualitas wafer dapat dilihat langsung dari catatan data, tanpa perlu mencari informasi tambahan dalam laporan kerja.