Pemanas pengering untuk laboratorium di dalam chip

Wed, 17 Jun 2026 11:19:16 +0800

Di lantai produksi, drift termal merupakan faktor yang dapat merusak kualitas produk, meski hal tersebut tidak selalu terlihat secara visual. Perubahan suhu sebesar 0,5°C selama proses pemanasan fotoresist saja sudah cukup untuk mengganggu dimensi-dimensi penting dari wafer tersebut. Jika proses pengeringan setelah pembersihan tidak dilakukan secara merata, maka akan muncul noda akibat air yang kemudian berubah menjadi cacat pada wafer tersebut. Kami menggunakan pemanas tipe “Lab on Chip” untuk menghilangkan ketidakpastian tersebut.

Apa yang penting secara teknis? Kami menggunakan sinar inframerah berfrekuensi rendah dengan emitor berbahan kuarsa-halogen—sehingga energi dipindahkan dengan cepat dan efisien, tanpa menimbulkan masalah akibat adanya titik panas. Di seluruh area aktif wafer, tingkat keseragaman suhu tetap berada pada kisaran ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitasnya adalah ±0,5°C. Artinya, setiap proses pemanasan dilakukan sesuai dengan standar yang sama, dari satu batch ke batch lainnya.

Laboratorium on Eco-Friendly Infrared Heating

Pemanas pengering untuk laboratorium di dalam chip