<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Mengobati on Eco-Friendly Infrared Heating</title>
		<link>http://eco-ir-heater.com/id/tags/mengobati/</link>
		<description>Recent content in Mengobati on Eco-Friendly Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:17:10 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://eco-ir-heater.com/id/tags/mengobati/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pengeringan dengan sinar inframerah untuk lem semikonduktor</title>
				<link>http://eco-ir-heater.com/id/posts/infrared-curing-for-semiconductor-glue/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:17:10 +0800</pubDate>
				<guid>http://eco-ir-heater.com/id/posts/infrared-curing-for-semiconductor-glue/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://eco-ir-heater.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Pengeringan dengan sinar inframerah untuk lem semikonduktor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada proses pembuatan chip berukuran 300 mm, proses pengeringan lem bukan sekadar langkah termal biasa saja. Ini merupakan faktor yang &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;mempengaruhi&lt;/a&gt; dimensi komponen elektronik tersebut. Jika ada penyimpangan &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;sebesar&lt;/a&gt; beberapa derajat saja, maka pola penyebaran bahan fotoresist akan berubah, dan hasil produksi akan menurun, bahkan sebelum retikel menyentuh wafer. Itulah mengapa kita menggunakan sinar inframerah untuk proses pengeringan lem pada semikonduktor, agar variasi suhu dapat dikendalikan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam proses ini?&lt;/strong&gt;&#xA;Kita menggunakan sinar inframerah untuk memanaskan lapisan lem dan fotoresist secara cepat. Hasilnya adalah keseragaman suhu di permukaan wafer hingga ±0,1°C, yang diukur di antarmuka film, bukan di permukaan pemanas. Alat ini digunakan di ruang bersih dengan kondisi kelas 1–100; tidak ada partikel yang terbentuk, dan hal ini dapat dipastikan melalui pemantauan partikel secara langsung. Alat ini mampu melakukan proses pemanasan yang konsisten, dengan kontrol suhu yang ketat. Alat ini juga cocok digunakan dalam proses produksi skala besar, 24/7, tanpa adanya downtime yang tidak terduga.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
