Pengeringan on Eco-Friendly Infrared Heating

Audit energi untuk proses pengeringan di pabrik

Sun, 26 Jul 2026 12:01:22 +0800

Mengamankan Benda-Benda Saat Dikeringkan di Pabrik Kimia
Saat memproses benda-benda di pabrik kimia, Anda sebenarnya sedang bermain dengan api—secara harfiah. Di sana terdapat berbagai zat pembersih yang mudah terbakar. Dalam kondisi seperti ini, sedikit saja percikan api atau permukaan yang panas bisa mengubah hari kerja menjadi bencana. Itulah mengapa kita tidak sekadar meletakkan lampu tersebut di dalam kotak biasa; kita menggunakan kemasan khusus untuk lampu pemanas IR tersebut agar hal tersebut tidak terjadi.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Sun, 19 Jul 2026 08:29:07 +0800

Cara yang Tepat untuk Mengeringkan Wafer MEMS

Mengeringkan wafer sensor MEMS memang merupakan proses yang rumit. Jika distribusi panasnya tidak tepat, tegangan permukaan akan menyebabkan kerusakan pada lapisan sensor yang sensitif tersebut.

Untuk mencegah hal ini terjadi, kita menggunakan elemen pemanas inframerah khusus. Tujuannya sederhana: menguapkan cairan yang tersisa secara cepat, tanpa merusak sensor itu sendiri.

Masalah Terkait Kepadatan Panas

Yang perlu diperhatikan adalah kepadatan daya yang digunakan. Suhu harus seragam di seluruh permukaan wafer. Jika ada satu bagian yang lebih panas daripada bagian lainnya, wafer akan bengkok. Sangat sederhana, bukan?

Pemanas pengering wafer otomatis

Mon, 08 Jun 2026 02:32:29 +0800

Di lantai fab, pemrosesan photoresist dan pengeringan pasca-pembersihan tidak memberikan banyak ruang untuk kesalahan. Kita berbicara tentang toleransi pada level nanometer. Suhu pemanggangan yang meleset, profil pengeringan yang tidak seragam, atau partikel asing yang masuk selama pemanasan — dapat menyebabkan banyak wafer menjadi gagal produksi.
Kami mengembangkan pemanas pengering wafer otomatis untuk menghilangkan variabel-variabel tersebut.

Apa yang penting di balik sistem
Unit ini menggunakan pemancar infrared gelombang pendek (NIR) dengan kontrol loop tertutup. Stabilitas setpoint tetap dalam ±0,1°C di seluruh wafer, dan keseragaman termal di bidang proses dijaga dalam ±0,1°C. Inilah yang memastikan profil soft bake dan hard bake dapat diulang secara konsisten, batch demi batch.
Badan pemanas terbuat dari kuarsa dan stainless steel dengan kemurnian tinggi, menggunakan komponen dengan emisi gas rendah serta tata letak aliran udara laminar. Tujuannya sederhana: mencegah terjadinya generasi partikel sama sekali. Unit ini dapat dihubungkan ke rel otomatis dan pengering mandiri, dengan kontrol resep serta penelusuran melalui RS-485/Modbus.