Lampu pemanas untuk pengujian kerusakan wafer

Sat, 27 Jun 2026 01:20:07 +0800

Di fasilitas produksi, fluktuasi suhu selama proses burn-in dan pengeringan fotoresist tidak hanya berdampak pada tingkat keberhasilan produksi, tetapi juga dapat menghancurkan hasil produksi tersebut. Ketidakteraturan suhu sebesar 0,5°C di seluruh permukaan wafer akan menciptakan gradien suhu yang masuk ke dalam lapisan fotoresist. Gradien suhu ini akan berubah menjadi kesalahan dimensi setelah proses eksposur dan pengembangan fotoresist. Kita membutuhkan sistem pemanasan yang dapat dikontrol sebagai parameter proses yang stabil, bukan sesuatu yang tak terduga.

Apa yang penting dalam hal ini?
Kami merancang lampu pemanas untuk proses burn-in wafer menggunakan emitor kuarsa berpanjang gelombang pendek, karena emitor ini mampu menyebarkan energi dengan cepat dan secara tepat, dengan kontrol spektral yang baik. Hasilnya adalah tingkat keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer hingga ±0,1°C, pola pemanasan yang konsisten dari tahap pemanasan ringan hingga pemanasan intensif, serta respons termal yang cepat sehingga proses pemanasan dapat berjalan secara stabil tanpa adanya fluktuasi suhu yang berlebihan. Sistem ini dirancang agar cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan menggunakan bahan-bahan yang minim mengeluarkan gas, serta desain mekanis yang memastikan tidak ada partikel di titik pemanasan. Daya outputnya tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dengan perubahan intensitas kurang dari 5%, sehingga anggaran termal tetap konsisten dari satu batch produksi ke batch lainnya.

Terbakar on Eco-Friendly Infrared Heating

Lampu pemanas untuk pengujian kerusakan wafer