Lampa di riscaldamento per il test di bruciatura dei wafer

Sat, 27 Jun 2026 01:20:07 +0800

Nelle linee di produzione, le fluttuazioni termiche durante i processi di burn-in e di essiccazione del fotoresist non influiscono soltanto sulla resa dei prodotti finiti, ma la riducono addirittura a zero. Una variazione di temperatura di 0,5°C su tutta la superficie del wafer genera un gradiente di temperatura all’interno del fotoresist; tale gradiente si trasforma poi in errori dimensionali dopo l’esposizione e lo sviluppo del fotoresist stesso. È necessario poter controllare la temperatura come se fosse un vero e proprio parametro di processo, e non come una variabile imprevedibile.

Bruciare on Eco-Friendly Infrared Heating

Lampa di riscaldamento per il test di bruciatura dei wafer