Riscaldatore per post exposure bake (PEB)

Tue, 23 Jun 2026 12:51:33 +0800

Nella fase di litografia, le variazioni di temperatura del PEB non vengono segnalate da luci di avvertimento. Tali variazioni si manifestano invece come tolleranze eccessive nei valori di larghezza dei bordi del circuito stampato, riduzione della margine di dosaggio richiesto, e quantità di materiale scartato che viene rilevato soltanto in seguito. Abbiamo progettato questo riscaldatore per eliminare questi problemi: infatti, la chimica del fotoresto non tollera assolutamente alcuna deviazione rispetto alle condizioni termiche ottimali.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Utilizziamo radiazioni infrarosse a breve lunghezza d’onda, grazie a un sistema a base di quarzo e halogeni. In questo modo il calore viene trasmesso direttamente al wafer. Ciò riduce l’inerzia termica e permette una regolazione più rapida della temperatura. Sulla superficie di riscaldamento, l’uniformità della temperatura sul wafer rimane entro i ±0,1°C; inoltre, la stabilità della temperatura è tale che le dimensioni critiche del circuito stampato non variano significativamente da lotto a lotto.

(PEB) on Eco-Friendly Infrared Heating

Riscaldatore per post exposure bake (PEB)