Semikonduktor on Eco-Friendly Infrared Heating

Pemanas untuk bilik bersih semikonduktor

Fri, 24 Jul 2026 09:07:10 +0800

Hentikan amalan mengubah troli di bilik bersih tersebut menjadi “dapur” yang panas.

Kebanyakan elemen pemanasan akan memancarkan haba ke semua arah. Dalam bilik bersih untuk pengeluaran semikonduktor, ini merupakan masalah besar. Apabila menggunakan pemanas lama tersebut, dinding dalaman peralatan akan menyerap haba yang terbuang tersebut.

Akibatnya, badan peralatan akan menjadi terlalu panas sehingga sukar untuk disentuh, dan komponen-komponen sensitif akan rosak akibat pengembangan haba. Ini tentunya akan menyebabkan masalah besar.

Mengarahkan haba ke tempat yang sepatutnya

Kita boleh atasi masalah ini dengan menggunakan teknologi inframerah yang dapat mengarahkan haba ke tempat yang sepatutnya. Bayangkanlah ia seperti lampu suluh, bukannya pemanas biasa. Daripada memanaskan udara atau cangkerang logam, lampu inframerah akan menghantar radiasi elektromagnetik secara langsung ke permukaan benda yang diproses. Haba hanya akan bergerak apabila ia bertemu dengan permukaan yang mampu menyerap gelombang tersebut.

Wayar Teflon untuk pemanas semikonduktor

Sun, 12 Jul 2026 05:39:54 +0800

Mengapa kita beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan inframerah untuk cip tanpa plumbum
Sejujurnya, ketuhar konvensional lama itu sangat tidak efisien. Ia berukuran besar, lambat berfungsi, dan membuang banyak tenaga hanya untuk memanaskan udara di sekeliling komponen tersebut.

Itulah sebabnya kita beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan inframerah. Ini merupakan cara yang lebih baik untuk memenuhi standard “mesra alam” dan bebas plumbum, tanpa perlu memperlahankan proses pemasangan. Berbeza dengan ketuhar konvensional yang memanaskan seluruh ruang, kaedah inframerah menghantar tenaga terus ke permukaan komponen yang ingin diproses. Dengan cara ini, tidak perlu lagi menggunakan unit pengudaraan yang besar, dan penggunaan tenaga juga berkurangan.

Lampu pemanas inframerah berasaskan semikonduktor

Sun, 28 Jun 2026 01:18:11 +0800

Di bilik pengeluaran semikonduktor, seseorang perlu belajar dengan cepat. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist sudah cukup untuk mengubah lebar garisan pada wafer tersebut, sehingga wafer berukuran 300mm itu menjadi tidak boleh digunakan lagi. Tempoh masa yang diperlukan untuk proses pembakaran tersebut sangat ketat – tiada ruang untuk kesilapan. Kestabilan suhu bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan; ia merupakan faktor penting yang menentukan sama ada produk dapat dihasilkan dengan berkualiti atau tidak.

Kami telah mencipta mentol pemanas inframerah khas untuk memastikan suhu tetap stabil sepanjang proses pengeluaran.

Masa depan teknologi pemanasan berasaskan semikonduktor

Mon, 22 Jun 2026 18:55:05 +0800

Di fasiliti pembuatan cip, perubahan suhu semasa proses pembakaran yang lembut atau keras bukan sekadar masalah berkaitan ketebalan garisan pada permukaan cip. Perubahan suhu ini akan menjejaskan kualiti dan ketepatan proses pembuatan cip tersebut. Apabila oven tidak mampu mengekalkan suhu yang tetap pada keseluruhan permukaan cip, profil fotoresist akan berubah, dan ini seterusnya akan mempengaruhi hasil proses pembuatan cip. Dalam situasi seperti ini, tenaga yang digunakan akan habis untuk membuat penyesuaian, bukannya untuk mengawal suhu dengan efektif.