Tenaga on Eco-Friendly Infrared Heating

Penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang

Sun, 26 Jul 2026 12:01:33 +0800

Mengekalkan Keselamatan Semasa Proses Pengeringan di Kilang Bahan Kimia
Ketika proses pengeringan dilakukan di kilang bahan kimia, sebenarnya kita sedang bermain dengan api—secara harfiahnya. Terdapat bahan-bahan pembersih yang mudah terbakar di sekeliling kawasan tersebut. Dalam keadaan seperti ini, sedikit sahaja percikan api atau permukaan yang panas boleh menyebabkan bencana. Itulah sebabnya kita tidak sekadar meletakkan mentol lampu di dalam kotak; sebaliknya, kita memasukkan mentol tersebut ke dalam sarung pelindung agar perkara buruk tidak berlaku.

Pemanasan berasaskan semikonduktor yang menjimatkan tenaga

Thu, 23 Jul 2026 09:24:21 +0800

Berhenti memanaskan dinding mesin anda (dan mulakanlah memanaskan wafer tersebut)

Pernahkah anda perasan betapa panasnya dinding bilik semikonduktor tersebut? Ini merupakan masalah yang sering berlaku. Kebanyakan sistem pemanasan hanya menghantar tenaga ke semua arah, sehingga tenaga yang digunakan untuk memanaskan badan mesin itu sendiri, bukannya wafer yang sebenarnya. Ini merupakan pembaziran tenaga.

Itulah sebabnya kita menggunakan sistem pemanasan inframerah berarah.
Bagaimana ia berfungsi
Bayangkanlah perbezaan antara mentol lampu biasa dan lampu suluh. Daripada membiarkan haba tersebar ke mana-mana, lampu inframerah berarah akan menumpukan sinar tersebut ke tempat yang diperlukan. Kita boleh mengawal sudut pancaran tersebut agar tenaga tersebut sampai tepat ke tempat yang diinginkan.

Pemanas wafer yang cekap dari segi penggunaan tenaga

Tue, 21 Jul 2026 02:07:10 +0800

Melindungi Keselamatan Semasa Memanaskan Wafer di Sekitar Bahan Kimia Yang Mudah Terbakar

Sejujurnya, memanaskan wafer dalam proses pembersihan menggunakan bahan kimia merupakan tugas yang sangat berisiko. Terdapat wap-wap mudah terbakar dan meletup di sekelilingnya, dan peralatan pemanasan pula berada tepat di tengah-tengah kawasan tersebut.

Lampu inframerah biasa tidak sesuai untuk tujuan ini. Sebuah percikan kecil atau permukaan yang panas yang bersentuhan dengan wap kimia boleh menyebabkan bencana. Kami telah menghabiskan banyak masa untuk mencari cara untuk mencegah hal ini daripada berlaku. Semuanya bergantung pada cara kita menyegel peralatan tersebut.

Mengurangkan tenaga dalam pengeringan fab

Mon, 01 Jun 2026 17:41:30 +0800

Di lantai pembuatan, setiap watt yang anda gunakan untuk pengeringan adalah watt yang tidak boleh anda gunakan untuk margin proses. Ketuhar dan plat panas tradisional sering melebihi had termal, membazirkan tenaga sambil mengejar keseragaman ±0.1°C yang sebenar diperlukan oleh litografi. Anda memerlukan pengeringan yang pantas, bersih, dan boleh diulang—tanpa bil utiliti melambung tinggi.

Apa yang penting, secara teknikal
Kami membina langkah pengeringan berdasarkan pemanasan inframerah dekat (NIR) yang disesuaikan dengan penyerapan air dan pelarut, supaya tenaga digunakan untuk pengewapan, bukan untuk memanaskan pembawa dan pemasangan. Sistem ini mengekalkan keseragaman termal pada peringkat wafer dalam ±0.1°C merentasi keseluruhan tingkap—selepas pengeringan pasca-pembersihan, pemanggangan lembut photoresist, dan pemanggangan keras. Pembinaan kelas bilik bersih memastikan tiada penghasilan zarah, jadi ia sesuai digunakan dalam Kelas 1–100 tanpa risiko pencemaran. Kebolehulangan suhu dicapai melalui kawalan gelung tertutup dan output pemancar yang stabil, supaya profil termal yang sama boleh dijalankan dari satu syif ke syif berikutnya.