Wafer verbrandingstestverwarmingslamp

Sat, 27 Jun 2026 01:20:07 +0800

Op de productielijn hebben thermische schommelingen tijdens het ‘burn-in’-proces en het behandelen van de fotoresist invloed op de kwaliteit van het eindproduct. Een niet-uniformiteit van 0,5°C over het oppervlak van de wafer zorgt voor een gradient in de fotoresist. Deze gradient leidt na de belichting en ontwikkeling tot dimensionele fouten. Het is belangrijk om de hitte als een echte procesparameter te behandelen, en niet als een onvoorspelbare factor.

Wat er belangrijk is Voor onze tests hebben we verlichtingsapparaten gebruikt die zijn gebaseerd op kortegolf-NIR-kwartsemitters. Deze emitters leveren energie snel en gericht af, met nauwkeurige controle over het spectrum. Hierdoor wordt de temperatuur op het oppervlak van de wafer gelijkmatig gehouden, binnen ±0,1°C. Bovendien zijn de belichtingsprocessen herhaalbaar en kan men stabiele temperatuursveranderingen bereiken. Het systeem is ontworpen om te werken in schone ruimtes van klasse 1–100. Er worden materialen gebruikt die weinig gassen afgeven, en de mechanische opzet zorgt ervoor dat er geen deeltjes vrijkomen op de plek waar de hitte wordt gegenereerd. De output blijft stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met minder dan 5% intensiteitsverschil. Hierdoor blijft de thermische situatie consistent van batch tot batch.

Test on Eco-Friendly Infrared Heating

Wafer verbrandingstestverwarmingslamp