Wafer on Eco-Friendly Infrared Heating

Wafer verbrandingstestverwarmingslamp

Sat, 27 Jun 2026 01:20:07 +0800

Op de productielijn hebben thermische schommelingen tijdens het ‘burn-in’-proces en het behandelen van de fotoresist invloed op de kwaliteit van het eindproduct. Een niet-uniformiteit van 0,5°C over het oppervlak van de wafer zorgt voor een gradient in de fotoresist. Deze gradient leidt na de belichting en ontwikkeling tot dimensionele fouten. Het is belangrijk om de hitte als een echte procesparameter te behandelen, en niet als een onvoorspelbare factor.

Wat er belangrijk is Voor onze tests hebben we verlichtingsapparaten gebruikt die zijn gebaseerd op kortegolf-NIR-kwartsemitters. Deze emitters leveren energie snel en gericht af, met nauwkeurige controle over het spectrum. Hierdoor wordt de temperatuur op het oppervlak van de wafer gelijkmatig gehouden, binnen ±0,1°C. Bovendien zijn de belichtingsprocessen herhaalbaar en kan men stabiele temperatuursveranderingen bereiken. Het systeem is ontworpen om te werken in schone ruimtes van klasse 1–100. Er worden materialen gebruikt die weinig gassen afgeven, en de mechanische opzet zorgt ervoor dat er geen deeltjes vrijkomen op de plek waar de hitte wordt gegenereerd. De output blijft stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met minder dan 5% intensiteitsverschil. Hierdoor blijft de thermische situatie consistent van batch tot batch.

Geautomatiseerde wafer droger verwarmingselement

Mon, 08 Jun 2026 02:32:27 +0800

Op de fabrieksvloer laten fotolakverwerking en nabehandelingsdrogen weinig ruimte voor fouten. We hebben het over tolerantie op nanometerniveau. Een baktemperatuur die afwijkt, een droogprofiel dat niet uniform is, of een enkele deeltje die tijdens het verwarmen wordt geïntroduceerd — en veel wafers kunnen meteen afgeschreven worden.
We hebben de geautomatiseerde wafer-droogverwarmer ontwikkeld om die variabelen uit te schakelen.

Wat er onder de motorkap gebeurt
De unit maakt gebruik van kortegolf-infrarood (NIR) emitter met gesloten-lusregeling. De setpointstabiliteit blijft binnen ±0,1°C over de wafer, en de thermische uniformiteit op het procesvlak wordt gehouden binnen ±0,1°C. Dit zorgt voor herhaalbare soft bake- en hard bake-profielen, batch na batch.
De behuizing van de verwarmer is gemaakt van kwarts en hoogzuiver roestvrij staal, met onderdelen die weinig uitstoot geven en een laminaire luchtstroomopbouw. Het doel is eenvoudig: deeltjesproductie tot nul reduceren. Hij sluit aan op geautomatiseerde transportbanen en standalone drogers, terwijl RS-485/Modbus zorgt voor receptbeheer en traceerbaarheid.

Bestseller waferverwarmer 2026

Sun, 31 May 2026 02:26:41 +0800

Op de productievloer leef en sterf je bij temperatuurregeling. Bij de verwerking van photoresist is een tiende graad het verschil tussen een foutloze batch en een partij die wordt afgekeurd. Ongelijke warmte veroorzaakt hotspots die kritische afmetingen verschuiven en koude plekken die zorgen voor voetvorming en residu. Het thermische budget verschuift over de wafer en wanneer de bake-stap niet reproduceerbaar is, krimpt je overlay-budget en groeit de herbewerkingswachtrij.

We hebben de 2026 wafer heater precies voor deze situatie ontwikkeld. Het is een productiekwaliteits thermisch platform dat wafer-niveau uniformiteit behoudt op ±0,1°C, werkt zonder deeltjesincidenten en 24/7 blijft functioneren in Class 1–100 cleanrooms. Het is ontworpen voor de strenge eisen van soft bake en hard bake, waarbij temperatuurstabiliteit geen meetpunt is, maar de procesvoorwaarde.