Aquecedor de suporte para remoção de fotoresiste

Thu, 04 Jun 2026 00:44:02 +0800

Out on the lithography floor, a câmara de stripping não dá margem para erro quando a temperatura oscila. Uma variação de 0,5°C ao longo da pastilha pode deixar um resíduo fino de fotorresiste, provocar micro-resíduos e aumentar a contagem de partículas. É exatamente aí que o aquecedor de suporte para stripping de fotorresiste cumpre sua função—mantendo a condição térmica estável para que a química finalize o processo de forma limpa.

O que precisamos, ao final do dia, é de calor repetível com uniformidade rigorosa. Utilizamos elementos de infravermelho de onda curta compatíveis com o perfil de absorção da pilha de fotorresiste, alcançando uniformidade a nível de pastilha dentro de ±0,1°C. O corpo do aquecedor é de quartzo e cerâmica de alta pureza, projetado para salas limpas Classe 1–100 e concebido para gerar zero partículas durante o ciclo. A repetibilidade é o ponto central. Mesmo perfil de temperatura, ciclo após ciclo—mantém o viés da dimensão crítica estável e evita sucata na linha.

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Aquecedor de suporte para remoção de fotoresiste