Reduzindo energia na secagem em fabricação

Mon, 01 Jun 2026 17:41:30 +0800

No chão de fábrica, cada watt gasto na secagem é um watt que não pode ser usado na margem do processo. Fornos e placas aquecedoras tradicionais frequentemente ultrapassam o orçamento térmico, desperdiçando energia na tentativa de atingir a uniformidade de ±0,1°C que a litografia realmente exige. É necessário um processo de secagem rápido, limpo e repetível—sem que a conta de energia dispare.

O que importa, tecnicamente
Construímos a etapa de secagem com base em aquecimento por infravermelho próximo (NIR) ajustado à absorção de água e solventes, de modo que a energia seja direcionada para a evaporação, e não para aquecer suportes e acessórios. O sistema mantém a uniformidade térmica ao nível do wafer dentro de ±0,1°C em toda a janela—após secagem pós-limpeza, soft bake e hard bake do fotoresiste. A construção em padrão cleanroom mantém a geração de partículas em zero, permitindo operação em Classes 1–100 sem risco de contaminação. A repetibilidade da temperatura é garantida por controle em malha fechada e saída estável do emissor, possibilitando a execução do mesmo perfil térmico turno após turno.

Reduzindo on Eco-Friendly Infrared Heating

Reduzindo energia na secagem em fabricação