Вафля on Eco-Friendly Infrared Heating

Тестовая лампа для проверки на повреждения ваферов

Sat, 27 Jun 2026 01:20:07 +0800

На производственных линиях температурные колебания во время процедур закалки чипов и обработки фотополимера не только снижают качество продукции, но и полностью уничтожают его. Неравномерность температуры в 0,5°C на поверхности пластины приводит к возникновению градиента температур в самом фотополимере; этот градиент затем превращается в размерные ошибки после процедур экспозиции и обработки. Необходимо использовать температуру как настоящий процессный параметр, а не как фактор, влияющий случайным образом.

Что действительно важно Для тестирования чипов мы используем нагревательные лампы на основе кварцевых излучателей коротковолнового инфракрасного спектра. Они быстро и эффективно передают энергию, при этом обеспечивается строгий контроль спектра излучения. Благодаря этому достигается однородность температуры на поверхности пластины в пределах ±0,1°C. Также обеспечивается последовательность температурных процедур от мягкой до интенсивной обработки. Система разработана таким образом, чтобы соответствовать требованиям чистых комнат классов 1–100: используются материалы с низким уровнем выбросов газов, а конструкция обеспечивает отсутствие частиц прямо в зоне нагрева. Выходная мощность остается стабильной в течение более 5,000 часов, с девиацией интенсивности менее 5%, что позволяет сохранять стабильность температурных параметров при производстве различных партий продукции.

Инфракрасная лампа для сушки кремниевых пластин

Fri, 19 Jun 2026 02:05:11 +0800

На поверхности кристаллических пластин достаточно полуградусного смещения температуры во время процесса сушки, чтобы это привело к нарушению критических размерных характеристик и появлению дефектов на поверхности пластины. Необходимо обеспечить такую температуру, которая соответствует требованиям технологической карты, и это должно сохраняться на протяжении всего процесса, с каждой партией продукции. Именно этому и предназначены инфракрасные лампы для сушки кремниевых пластин.

Что имеет значение с технической точки зрения
Мы используем инфракрасные излучатели с короткими волнами, которые позволяют быстро достигать нужной температуры при одновременном строгом контроле спектра излучения. Благодаря этому происходит быстрая передача тепла без превышения допустимых значений температуры для фоторезиста. Во всей освещаемой зоне однородность температуры остается в пределах ±0,1°C. Повторяемость результатов обеспечивается за счет использования системы закрытого цикла контроля температуры непосредственно у выхода лампы. Весь комплекс соответствует стандартам чистых комнат от класса 1 до класса 100; материалы и конструкция корпуса способствуют минимизации образования частиц. На практике устройства работают более 5000 часов, сохраняя стабильность параметров работы в пределах 5% — это то, чего можно ожидать от таких устройств.

Автоматический нагреватель для сушки пластин

Mon, 08 Jun 2026 02:32:28 +0800

На производственном участке обработка фотосопротивления и сушка после очистки требуют минимальной допускаемой погрешности. Речь идет о допусках на нанометровом уровне. Переброс температуры запекания, неравномерный профиль сушки или попадание посторонней частицы во время нагрева — и можно прощаться со значительным количеством пластин.

Мы разработали автоматизированный нагреватель для сушки пластин, чтобы исключить эти переменные.

Что важно внутри

Устройство использует излучатели коротковолнового инфракрасного диапазона (NIR) с системой управления по обратной связи. Стабильность заданной температуры удерживается в пределах ±0,1°C по всей пластине, а тепловая однородность в зоне процесса — также ±0,1°C. Это обеспечивает повторяемость профильных режимов мягкого и жесткого запекания при каждой серии.

Лампа для сушки кремниевых пластин солнечных элементов

Fri, 05 Jun 2026 01:17:16 +0800

На производственном этаже влажный вафер — это риск, который вы не можете себе позволить. Остаточная влага приводит к коллапсу рисунка после экспонирования, а даже незначительное отклонение в температурном режиме выпечки повлияет на критические размеры. Именно для этого существует лампа для сушки ваферов солнечных батарей: чтобы исключить неопределенность из процесса сушки ваферов, предварительной и окончательной выпечки фоточувствительного материала, отверждения упаковки и сушки после очистки.

Мы создали лампу на основе инфракрасных (NIR) галогенных излучателей в кварцевом корпусе. Основная цель — это быстрое, направленное нагревание с низкой тепловой массой. Это обеспечивает быстрое установление температуры и строгий контроль: ±0.1°C однородности на уровне вафера в освещенной зоне, воспроизводимый отклик от заданной температуры до вафера и конструкция, совместимая с чистыми помещениями класса 1–100.