Тестовая лампа для проверки на повреждения ваферов

Sat, 27 Jun 2026 01:20:07 +0800

На производственных линиях температурные колебания во время процедур закалки чипов и обработки фотополимера не только снижают качество продукции, но и полностью уничтожают его. Неравномерность температуры в 0,5°C на поверхности пластины приводит к возникновению градиента температур в самом фотополимере; этот градиент затем превращается в размерные ошибки после процедур экспозиции и обработки. Необходимо использовать температуру как настоящий процессный параметр, а не как фактор, влияющий случайным образом.

Что действительно важно Для тестирования чипов мы используем нагревательные лампы на основе кварцевых излучателей коротковолнового инфракрасного спектра. Они быстро и эффективно передают энергию, при этом обеспечивается строгий контроль спектра излучения. Благодаря этому достигается однородность температуры на поверхности пластины в пределах ±0,1°C. Также обеспечивается последовательность температурных процедур от мягкой до интенсивной обработки. Система разработана таким образом, чтобы соответствовать требованиям чистых комнат классов 1–100: используются материалы с низким уровнем выбросов газов, а конструкция обеспечивает отсутствие частиц прямо в зоне нагрева. Выходная мощность остается стабильной в течение более 5,000 часов, с девиацией интенсивности менее 5%, что позволяет сохранять стабильность температурных параметров при производстве различных партий продукции.

Сжечь; Обжечь; Огонь on Eco-Friendly Infrared Heating

Тестовая лампа для проверки на повреждения ваферов