标签为“光刻胶”的页面如下 光刻胶剥离支撑加热器 在光刻车间,剥离室对温度的漂移没有任何容忍度。晶圆上0.5℃的波动可能会留下薄薄的光刻胶残留,诱发微小污垢,并导致颗粒计数上升。正是在这里,光刻胶剥离支持加热器发挥其作用——通过保持热边界条件的稳定,使化学反应能够顺利完成。 我们最终需要的是可重复的热量和严格的均匀性。我们使用与光刻胶堆的吸收特性... Read more...
光刻胶剥离支撑加热器 在光刻车间,剥离室对温度的漂移没有任何容忍度。晶圆上0.5℃的波动可能会留下薄薄的光刻胶残留,诱发微小污垢,并导致颗粒计数上升。正是在这里,光刻胶剥离支持加热器发挥其作用——通过保持热边界条件的稳定,使化学反应能够顺利完成。 我们最终需要的是可重复的热量和严格的均匀性。我们使用与光刻胶堆的吸收特性... Read more...