Op de productielijn is thermische drift een gevaarlijke factor die je niet altijd kunt zien. Een schommeling van 0,5°C tijdens het zacht bakken van het fotorezistent kan de cruciale afmetingen verstoren. Is de droogingsprocedure niet uniform? Dan ontstaan er watervlekken die later tot defecten kunnen leiden. We hebben een droogheater op basis van Lab on a Chip ontwikkeld om deze onzekerheden weg te nemen.
Wat technisch gezien belangrijk is
We gebruiken korte golflengte-infraroodstraling met kwarts-halogeenemitters – dit zorgt voor een snelle en efficiënte energieoverdracht, zonder dat er hete plekken ontstaan. Over het hele actieve gebied blijft de uniformiteit op ±0,1°C, terwijl de herhaalbaarheid op ±0,5°C ligt. Dit betekent dat iedere behandeling volgens dezelfde thermische parameters wordt uitgevoerd, batch na batch.
De temperatuurstijging wordt geregeld op 2°C/s, zodat er geen overgangen optreden. Dit is belangrijk wanneer je solventen uit dunne films wilt halen, zonder dat deze beschadigen. Het apparaat is compatibel met cleanrooms van klasse 1–100: er wordt geen stof gegenereerd in de hete zone, en de behuizing past goed bij HEPA-filters. De vermogensdichtheid is zo ingesteld dat er snel een reactie optreedt, zonder dat er gradiaties ontstaan. Het apparaat kan worden geïntegreerd in standaardproductietoestellen via CE-goedgekeurde stroom- en signaalinterfaces.
Waarom dit werkt
Bij het drogen van wafer wordt de warmte snel en gelijkmatig overgedragen, zodat de oppervlaktespanning snel afneemt. Na het wassen met DI-water blijft het oppervlak atomair schoon, zonder waterresten. In de lithografie zorgen de zachte en harde bakprocedures voor een hoge uniformiteit – de afmetingen blijven stabiel en de ruwheid van de randen neemt af.
Bij het verpakken zorgt de heater voor een controleerbare droogtijd voor encapsulanten en onderfills. Hierdoor verbetert de hechting en blijven er minimale lekken. Het praktische voordeel is dat er minder herwerkzaamheden nodig zijn, de cyclustijden blijven constant en de energieverbruik kan nauwkeurig worden geregeld.
Details die je moet meenemen in je plannen
De heater heeft een stabiele stroomvoorziening nodig om de gewenste uniformiteit van ±0,1°C te behouden. Als de spanning meer dan 2% fluctueert, wordt de uniformiteit verstoord en moet alles opnieuw worden afgesteld. Tijdens de installatie moet de afvoer van warme lucht goed worden geregeld – de hete zone moet beschermd worden tegen omringende turbulentie.
Plan ook regelmatige kalibraties elke 5.000 uur in, met behulp van een gecertificeerde referentiesensor. Dit zorgt ervoor dat de gewenste uniformiteit en herhaalbaarheid behouden blijven.