Pare de aquecer as paredes da máquina (e comece a aquecer os waferes em si). Já notou como as paredes de uma câmara de semicondutores podem ficar extremamente quentes? É um problema bastante comum e irritante. A maioria dos sistemas de aquecimento dispersa energia em todas as direções, o que significa que se gasta muita energia para aquecer o chassi da máquina, em vez do próprio wafer. É um desperdício.
É por isso que usamos aquecimento por infravermelho direcional. Como funciona na prática: pense na diferença entre uma lâmpada comum e uma lanterna. Em vez de dispersar calor para todos os lados, as lâmpadas de infravermelho direcional concentram o feixe de luz no ponto desejado. Podemos controlar o ângulo para que a energia seja direcionada exatamente para onde é necessário.
O resultado? Seus equipamentos caros não funcionam como “esponjas” que absorvem calor desnecessariamente. Você consegue obter a temperatura desejada no wafer, enquanto o corpo da máquina permanece frio.
Segurança e conta de luz: quando as paredes não ficam extremamente quentes, todos respiram mais aliviados. Seus técnicos podem realizar manutenções ou verificações sem correr o risco de se queimar.
Além disso, há também o aspecto financeiro. Você para de gastar dinheiro para aquecer um estrutura metálica que não precisa ficar quente.
Uma coisa a ter em mente: como toda essa energia é concentrada em um único ponto, o calor nesse local é intenso. Se o substrato for sensível ao calor, será preciso ajustar a distância da lâmpada e a frequência de pulso. Você não quer criar pontos quentes acidentais.
Configuração: projetamos essas lâmpadas para serem fáceis de instalar. Não é preciso desmontar toda a câmara ou redesenhar seu layout só para instalá-las.
Mas aqui está o detalhe importante: o alinhamento é fundamental. Se a lâmpada se deslocar mesmo que alguns graus, o calor começará a se espalhar pelas paredes novamente. Para manter tudo sob controle, use um controlador PID preciso. Assim, você não precisa se preocupar com isso.