Hören Sie auf, auf den Ofen zu warten: Warum IR-Heizung besser ist als Heizung mit gezwungener Luftzirkulation Wenn Sie bereits Erfahrung im...

Sicherstellen der Sicherheit beim Erwärmen von Wafern in der Nähe flüchtiger Chemikalien Seien wir ehrlich: Das Erwärmen von Wafern in einer...

Das richtige Trocknen von MEMS-Wafern Das Trocknen von MEMS-Sensorwafern ist eine echte Herausforderung. Wenn die Wärmeverteilung nicht richtig...

Der Kampf zwischen Wärme und Entfernung bei der Erwärmung von Wafern Wenn wir tatsächlich die Kohlenstoffbilanz der Halbleiterfabriken verringern...

Auf der Fertigungsfläche führen thermische Schwankungen während des Burn-in-Prozesses sowie bei der Erhitzung des Fotoleitmittels nicht nur dazu,...

Auf der Oberfläche der Siliziumwafer reicht bereits eine Abweichung von einem halben Grad während des Trocknungsprozesses aus, um zu Fehlern in den...

Auf dem Fertigungsboden lassen Fotoresist-Prozesse und Trocknungsprozesse nach der Reinigung kaum Spielraum für Fehler. Wir sprechen hier von...

Auf dem Fertigungsboden ist ein nasser Wafer eine untragbare Liability. Übrig gebliebene Feuchtigkeit führt nach der Belichtung zu einem...

Auf dem Fertigungsboden hängt alles von der Temperaturkontrolle ab. Bei der Verarbeitung von Photoresist macht ein Zehntel Grad den Unterschied...