Di bilik pengeluaran, perubahan suhu yang tidak konsisten merupakan faktor yang boleh merosakkan kualiti produk, dan ia sering kali tidak dapat dilihat dengan jelas. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa proses pemanasan boleh menyebabkan perubahan pada dimensi penting komponen tersebut. Jika proses pengeringan selepas pembersihan tidak dilakukan secara konsisten, ia akan menyebabkan kemunculan kesan air pada permukaan komponen, yang seterusnya akan menjadi kecacatan pada komponen tersebut. Kami menggunakan pemanas jenis Lab on Chip untuk mengurangkan ketidakkonsistenan suhu ini.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kami menggunakan pancaran inframerah gelombang pendek bersama pemancar kuarsa-halogen – cara yang efektif untuk memindahkan tenaga tanpa menciptakan kawasan panas yang berlebihan. Konsistensi suhu di seluruh permukaan wafer adalah sekitar ±0.1°C, manakala ketepatan penetapan suhu pula adalah ±0.5°C. Ini bermakna setiap proses pemanasan akan mengikut pola suhu yang sama, dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain.
Kenaikan suhu dikawal pada kadar 2°C/s, dan risiko suhu melebihi had yang ditetapkan dapat dikurangkan. Ini sangat penting apabila kita ingin menghilangkan bahan pelarut daripada lapisan nipis tanpa merosakkan lapisan tersebut. Reka bentuk ini sesuai untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100: tiada zarah terhasil di kawasan panas, sistem ekzos yang efektif, serta struktur yang sesuai untuk digunakan bersama alat HEPA. Ketumpatan tenaga yang digunakan disesuaikan agar respons termal berlaku dengan cepat tanpa menimbulkan perbezaan suhu yang besar. Selain itu, reka bentuk ini juga dapat disepadukan dengan alat-alat proses standard melalui antaramuka tenaga dan isyarat yang memenuhi standard CE.
Mengapa cara ini berkesan
Dalam proses pengeringan wafer, haba yang dihasilkan adalah cepat dan sekata, sehingga tegangan permukaan dapat dikurangkan dengan cepat. Permukaan wafer akan menjadi bersih sepenuhnya setelah proses pencucian, tanpa adanya kesan air pada permukaannya. Dalam proses litografi, proses pemanasan yang dilakukan dilakukan dengan konsistensi yang tinggi – dimensi komponen tetap stabil, dan kerataan garis tepi juga berkurangan.
Dalam proses pembungkusan pula, pemanas ini membolehkan proses pengeringan berlangsung dengan kawalan yang baik. Daya lekat bahan-bahan yang digunakan akan bertambah baik, dan risiko adanya ruang kosong dalam bahan tersebut akan berkurangan. Kelebihannya ialah kurangnya keperluan untuk membaiki produk, masa proses yang lebih konsisten, serta penggunaan tenaga yang lebih efisien dank arena kawalan kadar operasi yang tepat.
Butiran yang perlu dipertimbangkan
Pemanas ini memerlukan bekalan voltan yang stabil untuk memastikan konsistensi suhu sebanyak ±0.1°C. Jika voltan berubah lebih dari 2%, profil suhu akan berubah, dan kita perlu menyesuaikan tetapan semula. Pemasangan pemanas juga perlu dilakukan dengan teliti agar kawasan panas terpisah daripada gangguan udara di sekelilingnya.
Selain itu, kalibrasi perlu dilakukan setiap 5,000 jam menggunakan sensor rujukan yang telah disahkan. Ini akan memastikan konsistensi dan ketepatan suhu tetap terjaga.