Bezpečné sušení v chemické továrně Když sušíte díly v chemické továrně, doslova hrajete si s ohněm. Všude kolem jsou těkavé čisticí prostředky. V...

Správné sušení čipů MEMS Sušení čipů senzorů typu MEMS představuje opravdu náročný úkol. Pokud nezvládnete správně rozložit teplo, začne působit...

Na povrchu čipů stačí během sušení posun o půl stupně, aby došlo k narušení kritických rozměrů a začaly se objevovat vady v fotorezistu. Je potřeba...

V prostředí výroby je tepelná odchylka tím „tichým zabijákem kvality“, kterého ne vždy můžete vidět. Pohyb teploty o 0,5 °C během procesu zahřívání...

Na výrobní lince není při zpracování fotoresistu a sušení po čištění prostor pro chyby. Hovoříme zde o tolerancích v řádu nanometrů. Změna teploty...

On-line je třeba sušit katalytické vrstvy bez jakýchkoli odhadů. Při nedostatečném vysušení zůstává v materiálu zbytek rozpouštědla, což vede k...

Na výrobním podlaží je mokrý wafer závazkem, který si nemůžete dovolit. Zbytková vlhkost vás vystavuje riziku kolapsu vzoru po expozici a pečící...

Na výrobní lince každý watt spotřebovaný na sušení znamená watt, který nelze využít na procesní rezervu. Tradiční pece a horké desky běžně překračují...