ファブ内では、ソフトベイクやハードベイクの際に生じる熱変動は、単に線幅の問題だけにとどまりません。このような熱変動は、製品の歩留まりや再現性を徐々に低下させてしまいます。オーブンがウェーハ全体にわたって一定の温度を維持できない場合、フォトレジストの状態が不安定になり、エッチングの精度も悪化します。その結果、コントロールを保つ代わりに、修正に時間が費やされてしまいます。
実際に必要なのは、測定可能で信頼できる制御機能です。私たちは、プロセス全体を通じて±0.1℃以内の均一性を実現するための超精密な熱制御システムを開発しました。NIR放射加熱と特殊な石英製部品を組み合わせることで、迅速かつ均一な加熱が可能になり、ホットスポットやコールドスポットが発生しません。
このシステムは、クラス1–100のクリーンルームでの使用に適しており、インサイトモニタリングによって粒子の発生がないことを確認しています。クローズドループ式の校正により、再現性が保証され、毎回のソフトベイクやハードベイクの結果が安定します。
つまり、このシステムによって熱変動による不良が防げます。その結果、重要な寸法の制御がより厳密になり、再作業が減少し、先端プロセスでも安定したリソグラフィ性能が得られます。
加熱は直接かつ効率的に行われるため、エネルギー消費も少なくなります。また、部品が24時間365日の運用に耐えられるため、計画外の停止が少なくなります。その結果、予測可能なサイクルタイムと、エッチングや現像工程でのバラつきが減少します。
実用上の注意点として、NIRシステムでは、ウェーハスタックに対して正確な視線の調整と放射率のマッチングが必要です。特定のフォトレジストや基板スタックに合わせて吸光度や温度プロファイルを調整するためには、しばらくの時間がかかります。一度設定すれば、プロセスは安定して続きます。