化学工場で部品を乾燥させる際には、まるで火遊びをしているようなものです。あちこちに揮発性の高い洗浄剤があるため、わずかな火花や高温の表面が何かに触れるだけで、仕事が大惨事に変わってしまう可能性があります。そのため、私たちは単にランプを箱の中に入れるだけではなく、IR加熱ランプをケースに封じ込めて、...

MEMSウェーハの適切な乾燥方法 MEMSセンサーのウェーハを乾燥させるのは、実に繊細な作業です。もし加熱の分布が適切でなければ、表面張力の影響でセンサーの膜が傷ついてしまいます。 このような事態を防ぐために、私たちは特殊な赤外線ヒーターを使用します。目的は単純です——残っている液体を瞬時に蒸発さ...

ウェハーの乾燥工程においては、わずか0.5度のずれだけで、重要な寸法のバイアスが生じ、レジストに欠陥が発生する可能性があります。そのため、工程カードで指定された条件に合致するような熱を、シフトごと、ロットごとに正確に供給する必要があります。これが、シリコンウェハー用の赤外線ランプが設計される際の基...

製造現場において、熱歪みというのは、目に見えない形で品質を損なう要因です。フォトレジストのソフトベイク時に0.5℃の温度変動があるだけで、重要な寸法が狂ってしまいます。また、洗浄後の乾燥が不均一だと、水跡が残り、それが後々の欠陥につながります。私たちは、このような不確実性を排除するために、Lab...

Fabフロアでは、フォトレジスト処理および後工程の洗浄乾燥において、ミスの余地はほとんどない。ナノメートルレベルの許容差の話である。焼成温度がずれる、乾燥プロファイルが均一でない、加熱中に一つでも異物が混入すれば、多数のウェーハを失うことになる。 これらの変数を排除するために、自動ウェーハ乾燥ヒー...

ライン上の乾燥の重要性 触媒層は、推測の余地を残さない乾燥が必要です。焼きが不十分だと溶剤を閉じ込め、剥離が発生します。焼きすぎると、活性表面積が燃焼します。どちらにしても、材料を無駄にし、セルを廃棄することになります。我々は、半導体基準で温度制御と清浄度を実現する燃料電池触媒乾燥ランプを開発しま...

ファブフロアにおけるウェットウエハは許容できない負債です。残留水分は露光後のパターン崩壊を引き起こし、わずかに異なる焼成プロファイルは重要な寸法のドリフトを引き起こします。これが、太陽電池ウエハの乾燥ランプが存在する理由です：ウエハの乾燥、フォトレジストのソフトベークおよびハードベーク、パッケージ...

Role ファブフロアでは、乾燥に消費するワットはすべて、プロセスマージンに使えないワットである。従来型のオーブンやホットプレートは、熱予算を超過しがちであり、リソグラフィに必要な±0.1℃の均一性を追求する過程でエネルギーを浪費している。乾燥は迅速でクリーンかつ再現性があり、かつ光熱費が跳ね上が...