Role
ファブフロアでは、乾燥に消費するワットはすべて、プロセスマージンに使えないワットである。従来型のオーブンやホットプレートは、熱予算を超過しがちであり、リソグラフィに必要な±0.1℃の均一性を追求する過程でエネルギーを浪費している。乾燥は迅速でクリーンかつ再現性があり、かつ光熱費が跳ね上がらないことが求められる。
技術的に重要な点
乾燥工程は、水分および溶媒の吸収に合わせて調整された近赤外線（NIR）加熱を中心に構築しているため、キャリアや治具の加熱にエネルギーが消費されず、蒸発に直接エネルギーが投入される。システムは、クリーン後の乾燥、フォトレジストのソフトベークおよびハードベークにおいて、ウェハレベルでの熱均一性を±0.1℃以内に維持する。クリーンルームグレードの構造により粒子発生はゼロであり、クラス1〜100環境で汚染を懸念することなく使用可能である。温度の再現性は、閉ループ制御と安定したエミッタ出力により確保され、同一の熱プロファイルがシフト毎に再現される。
量産での効果
この方式のメリットは生産ラインで顕著に現れる。熱は必要な時にのみ供給されるため（高速昇温、即時遮断）、アイドル時のロスが発生しないことでエネルギー使用量が低減する。フォトレジストのプロファイルは安定し、スカムやフット形成はなく、ベークの一貫性と溶媒除去の管理が効いている。結果としてリワークロットが減少し、ファーストパス歩留まりが向上し、サイクルタイムが短縮される。メンテナンス間隔も延びる：熱容量が低く、長寿命設計のヒーターにより予備部品の削減とダウンタイムの低減が可能である。
実務上の注意点
NIR乾燥は直視線方式であるため、ツールレイアウトではビームの照射範囲とウェハの向きを考慮し、バッチ全体の均一性を確保する必要がある。ほとんどのトラックやコート・ベークプラットフォームへは容易に統合可能だが、熱結合とセンサー配置を確定するために短期間の適格性試験が必要である。瞬時負荷特性に合わせた光熱設備の小規模な再構成も見込むべきである。エネルギー節約効果は実質的だが、需要特性が異なることは認識しておく必要がある。