Fabフロアでは、フォトレジスト処理および後工程の洗浄乾燥において、ミスの余地はほとんどない。ナノメートルレベルの許容差の話である。焼成温度がずれる、乾燥プロファイルが均一でない、加熱中に一つでも異物が混入すれば、多数のウェーハを失うことになる。 これらの変数を排除するために、自動ウェーハ乾燥ヒー...

ファブフロアにおけるウェットウエハは許容できない負債です。残留水分は露光後のパターン崩壊を引き起こし、わずかに異なる焼成プロファイルは重要な寸法のドリフトを引き起こします。これが、太陽電池ウエハの乾燥ランプが存在する理由です：ウエハの乾燥、フォトレジストのソフトベークおよびハードベーク、パッケージ...