
Pada permukaan wafer, perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pengeringan sudah cukup untuk mengganggu dimensi kritikal wafer tersebut, lalu menyebabkan masalah pada lapisan resisten yang digunakan. Anda memerlukan haba yang tepat, seperti yang ditetapkan dalam arahan proses, dari masa ke masa dan dari satu kumpulan wafer ke kumpulan lain. Itulah realiti yang dihadapi oleh lampu inframerah yang digunakan untuk mengeringkan wafer silikon ini.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Kita menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi rendah yang mempunyai kemampuan untuk meningkatkan suhu dengan cepat serta kawalan spektrum yang tepat. Dengan cara ini, pemindahan haba berlaku dengan cepat tanpa melebihi had suhu yang ditetapkan untuk lapisan resisten. Kestabilan suhu di seluruh permukaan wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C, dan ketepatan proses dapat dipastikan melalui sistem pengukuran suhu yang canggih. Keseluruhan sistem ini sesuai digunakan dalam bilik bersih yang memenuhi standard dari Kelas 1 hingga Kelas 100. Bahan-bahan yang digunakan serta reka bentuk sistem ini membantu mengurangkan penghasilan zarah-zarah yang tidak diinginkan. Dalam penggunaan sebenar, unit ini telah beroperasi selama lebih dari 5,000 jam, dan masih mampu mengekalkan stabilitas output pada tahap 5% – prestasi yang boleh diharapkan.
Mengapa ia berfungsi dengan baik dalam proses sebenar
Dalam proses pengeringan menggunakan kaedah spin-rinse atau penghapusan kelembapan selepas pembersihan, lampu inframerah membantu mengeringkan wafer dengan cepat, sambil mengelakkan masalah seperti keruntuhan corak atau pembentukan benjolan di tepi wafer. Dalam proses litografi pula, lampu ini digunakan untuk proses pembakaran yang terkawal, sehingga kawalan ketebalan garisan menjadi lebih tepat, dan jumlah bahan yang perlu dibuang berkurangan. Hasilnya, jumlah bahan sisa berkurangan, penggunaan tenaga juga berkurangan kerana adanya penggabungan radiasi yang efisien, dan masa henti akibat penyelenggaraan juga berkurangan. Reka bentuk ini memenuhi standard peralatan semikonduktor antarabangsa, dan memberikan alternatif yang setara untuk platform yang sudah ada.
Apa yang perlu anda persiapkan
Pemasangan lampu ini memerlukan pertimbangan terhadap jarak antara lampu dan wafer, serta aliran udara. Lampu perlu dipasang pada jarak yang ditentukan dan diselaraskan dengan laluan wafer, agar keseragaman suhu dapat dicapai. Keserasian elektromagnetik dengan alat pengimbas dan unit pengendali mungkin memerlukan perlindungan tambahan atau penyesuaian laluan kabel. Lakukan ujian pendek untuk menentukan profil suhu yang sesuai dengan proses yang anda gunakan, kemudian tetapkan nilai-nilai yang sesuai.