もうオーブンを待つのはやめましょう：なぜIR加熱が強制送風より優れているのか 半導体製造に携わったことがある人なら、その「待つ」という時間の無駄さをよく知っているでしょう。特に、ウェハーを加熱したり硬化させる際に起こる、何もできずにただ待つという状況は本当に苦痛です。 業界ではこれを「熱的慣性」と...

揮発性化学物質の近くでウェーハを加熱する際に、安全を守る方法 正直言って、化学洗浄ラインでウェーハを加熱するのは非常に危険な作業です。周囲には可燃性または爆発性のある蒸気が漂っており、加熱装置もその真ん中にあるのです。 一般的な赤外線ランプでは、このような環境には適していません。わずかな火花や、高...

MEMSウェーハの適切な乾燥方法 MEMSセンサーのウェーハを乾燥させるのは、実に繊細な作業です。もし加熱の分布が適切でなければ、表面張力の影響でセンサーの膜が傷ついてしまいます。 このような事態を防ぐために、私たちは特殊な赤外線ヒーターを使用します。目的は単純です——残っている液体を瞬時に蒸発さ...

ウェーハ加熱における熱と距離の間のバランス もし半導体製造プラントの炭素排出量を減らしたいのであれば、古い抵抗式の炉に頼るのはやめなければなりません。そうした炉はエネルギーを無駄に消費します。代わりに短波赤外線システムを利用するのが最善です。なぜなら、赤外線ランプはウェーハの表面に直接当たるからで...

ファブ内では、バーンイン処理やフォトレジストの焼成時に生じる温度変動は、単に歩留まりを低下させるだけでなく、完全に歩留まりを失わせてしまいます。ウェーハ全体で0.5℃の温度不均一性があると、その勾配がフォトレジストに直接影響を与え、露光・現像後に寸法誤差につながります。したがって、熱を単なるランダ...

ウェハーの乾燥工程においては、わずか0.5度のずれだけで、重要な寸法のバイアスが生じ、レジストに欠陥が発生する可能性があります。そのため、工程カードで指定された条件に合致するような熱を、シフトごと、ロットごとに正確に供給する必要があります。これが、シリコンウェハー用の赤外線ランプが設計される際の基...