생산 현장에서는 빠르게 배울 수 있습니다. 포토레지스트를 가열하는 과정에서 1°C만큼의 온도 변동이 있어도 회로선의 굵기가 달라져서 300mm 웨이퍼가 폐기물이 될 수 있습니다. 소프트 베이크와 하드 베이크의 조건은 매우 엄격하며, 조금이라도 오차가 있으면 안 됩니다. 열적 균일성은 단순히 좋은 것이 아니라, 제품 생산 성공 여부를 결정하는 핵심 요소입니다.
저희는 이러한 열적 조건을 일관되게 유지하기 위해 반도체용 적외선 히팅 램프를 개발했습니다.
내부 구조에서 중요한 점 저희는 짧은 파장의 적외선을 사용하여 빠르게 온도를 상승시키고, 스펙트럼을 정확하게 제어합니다. 그래서 과도한 온도 상승 없이 빠르고 정확하게 목표 온도에 도달할 수 있습니다. 베이킹 구역 전체에서 웨이퍼의 온도는 ±0.1°C 이내로 일관되며, 설정된 온도의 반복성은 ±0.5°C입니다.
또한, 재료가 클린룸 환경에 적합하고 광학 경로가 완전히 밀폐되어 있기 때문에 불순물이 들어오지 않습니다. 이 램프는 5,000시간 이상 작동해도 성능 저하가 5% 미만입니다. 크기도 표준 장비 공간에 잘 맞으며, 기존 PLC 시스템과도 쉽게 연동됩니다.
리소그래피와 패키징 분야에서의 장점 리소그래피 분야에서는 이러한 반복성 덕분에 일관된 포토레지스트 프로파일을 얻을 수 있으며, 재작업이 줄어들고 CD 제어도 안정적으로 유지됩니다. 패키징 분야에서는 빠르고 균일한 가열 덕분에 경화 과정이 단축되며, 스택 구조에 부담이 가지 않습니다.
또한, 램프가 직접 목표물을 가열하기 때문에 챔버 내부의 공기를 가열하는 데 에너지가 낭비되지 않습니다. 그 결과, 공정 조건이 안정적이고, 유지보수 주기도 예측 가능해지며, 계획치 못한 멈춤이 줄어듭니다.
설치 시 반드시 고려해야 할 사항 설치 과정에서는 광학적 정렬과 EMI/EMC 문제를 해결하는 것이 중요합니다. 반사된 광선들이 열점을 만들 수 있으므로, 차폐 처리와 방벽 설치가 필수적입니다.
이 램프는 클래스 1–100의 클린룸에서도 사용될 수 있지만, 열 성능은 챔버의 구조와 공기 흐름에 따라 달라집니다. 장비의 사양을 알려주시면, 그에 맞게 설정을 조정해 드리겠습니다.
품질 검증도 빠르게 이루어집니다. 일단 공정이 안정되면, 반복 작업 시에도 일관된 성능을 유지할 수 있습니다.