
Di bilik pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pembakaran dan pengeringan bahan fotoresist bukan sahaja mempengaruhi kadar kelulusan produk, malah boleh menghapuskan peluang untuk mendapatkan produk yang berkualiti. Perbezaan suhu sebanyak 0.5°C pada permukaan wafer akan menyebabkan perbezaan ketara dalam kualiti lapisan fotoresist. Perbezaan ini seterusnya akan menjadi ralat dimensi setelah proses pendedahan dan pemprosesan dilakukan. Kita memerlukan sistem pemanasan yang dapat dikawal dengan baik, bukan sesuatu yang tidak dapat diramalkan.
Apa yang penting dalam sistem ini
Kita menggunakan lampu pemanasan yang berbasis pada pemancar inframerah gelombang pendek jenis kuarsa. Pemancar ini mampu mengeluarkan tenaga dengan cepat dan secara terarah, serta mempunyai kawalan spektrum yang tepat. Hasilnya ialah suhu pada permukaan wafer yang seragam, dalam lingkungan ±0.1°C. Selain itu, proses pengeringan juga dapat dilakukan dengan konsisten, dari tahap pengeringan lembut hingga keras. Sistem ini direka untuk digunakan dalam ruang bersih tahap 1–100, menggunakan bahan-bahan yang menghasilkan sedikit gas, serta reka bentuk mekanikal yang memastikan tiada zarah terbentuk di titik pemanasan. Prestasi sistem ini kekal stabil selama lebih daripada 5,000 jam, dengan perubahan intensiti cahaya kurang dari 5%. Dengan ini, kawalan suhu dapat dipertahankan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain.
Mengapa sistem ini sesuai untuk keperluan anda
Dalam proses pembakaran dan ujian, komponen elektronik perlu menghadapi tekanan haba yang sebenar, tanpa gangguan daripada bahan pembungkus yang boleh merosakkan hasil ujian. Dalam proses litografi pula, bahan fotoresist memerlukan proses pengeringan yang seragam di seluruh permukaan wafer. Lampu pemanasan yang kita gunakan memberikan ketepatan yang tinggi, sambil mengurangkan penggunaan tenaga dan memanjangkan jangka masa penyelenggaraan. Ini membolehkan kita mengawal dimensi komponen dengan lebih baik, mengurangkan jumlah barang yang perlu diperbaiki, serta memastikan operasi berjalan lancar tanpa gangguan akibat perubahan suhu pada waktu malam.
Apa yang perlu diperhatikan
Lampu ini memang kompak, tetapi kepadatan habanya tinggi. Pemasangannya memerlukan pengasingan haba yang betul daripada modul-modul lain, serta saluran pelepasan haba yang efektif. Jika tidak, polimer dan kabel di sekitarnya boleh rosak. Lampu ini boleh dipasang di tempat yang biasa digunakan untuk alat-alat lain, tetapi toleransi penyetelan antara pemancar dan wafer haruslah sangat ketat. Setelah disetel, pastikan ia dicatatkan dan dikunci agar tidak berubah.