ファブの現場では、素早く学ぶ必要があります。フォトレジストを焼成する際に1℃のずれがあるだけで、回路線幅が変わり、300mmウェーハが廃棄処分になってしまいます。ソフトベイクとハードベイクの範囲は非常に狭く、余裕はありません。熱の均一性は単なる望ましい条件ではなく、歩留まりを左右する重要な要素です。
私たちは、このような熱的条件を常に維持できるように、半導体用の赤外線ヒーターを開発しました。
内部で何が重要か 私たちは、迅速に温度を上昇させ、スペクトルを正確に制御できる短波長のNIRエミッターを使用しています。これにより、過剰な加熱がなく、ウェーハ全体の温度を±0.1℃以内に保つことができます。また、設定温度の再現性も±0.5℃です。
材料がクリーンルーム適合型であり、光路が完全に遮断されているため、粒子が混入することもありません。このヒーターは5,000時間以上動作しても出力の低下は5％未満です。サイズも標準的なツールスペースに収まり、既存のPLC制御システムとも簡単に連携できます。
なぜこれがリソグラフィやパッケージングに役立つのか リソグラフィでは、この再現性によって、一貫したフォトレジストの特性が得られ、再作業が減少し、CDの精度も安定します。パッケージングでは、迅速かつ均一な加熱によって、スタックアップに負担をかけることなく、硬化サイクルが短縮されます。
また、ヒーターが直接対象物を加熱するため、チャンバ内の空気を加熱する無駄なエネルギー消費がありません。その結果、安定したプロセス条件、予測可能なメンテナンス間隔、そして計画外の停止が減少します。
設置時に注意すべき点 設置時には、光学的位置決めと適切なEMI/EMC対策が重要です。不要な反射光が原因でホットスポットが発生する可能性があるため、遮蔽やバッフルの使用が不可欠です。
このヒーターはクラス1～100のクリーンルームで使用できますが、熱性能はチャンバの形状や空気の流れに依存します。ご自身のツールの仕様を教えていただければ、それに合わせて最適な設定を行います。
試験も迅速に行えます。一度プロセスが安定すれば、繰り返し運転時の再現性も期待通りになります。